你知道吗？光刻固化灯需要用uv能量计进行检测-九游会俱乐部

uv能量计又称为紫外能量计、uv焦耳计等。是用于检测紫外能量的一种仪器。仪器用于测量不同波段的uv能量，尤其是用于印刷机器上。确保印刷及干燥之过程达到理想的质量控制。

一、仪器在光刻固化行业的应用

紫外固化光刻胶又称为光致抗蚀剂，它由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合物。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，容去可溶性部分，得到所需图像。紫外固化光刻胶是制造印刷电路板(pcb)电路图形的关键材料，主要分为湿膜光刻胶(又称为“液态光致抗蚀剂”)和干膜光刻胶两大类。

二、光刻固化的过程

1.基片前处理：为确保光刻胶能和晶圆表面很好粘贴，形成平滑且结合得很好的膜，必须进行表面准备，保持表面干燥且干净。

2. 涂光刻胶：涂胶的目标是在晶圆表面建立薄的、均匀的，并且没有缺陷的光刻胶膜。

3. 前烘(软烘焙)：前烘的目的是去除胶层内的溶剂，提高光刻胶与衬底的粘附力及胶膜的机械擦伤能力。

4. 对准和曝光：保证器件和电路正常工作的决定性因素是图形的正确对准，以及光刻胶上的图形尺寸的形成。所以，涂好光刻胶后，是先把所需图形在晶圆表面上进行定位或对准。然后是通过曝光将图形转移到光刻胶涂层上。

5. 显影：显影是指把掩膜版图案复制到光刻胶上。

6. 后烘(坚膜)：经显影以后的胶膜发生了软化、膨胀，胶膜与硅片表面粘附力下降。为了保证下一道刻蚀工序能顺利进行，使光刻胶和晶圆表面更好地粘结，必须继续蒸发溶剂以固化光刻胶。

7. 刻蚀：刻蚀是通过光刻胶暴露区域来去掉晶圆最表层的工艺，主要目标是将光刻掩膜版上的图案精确地转移到晶圆表面。

8. 去除光刻胶：刻蚀之后，图案成为晶圆最表层永久的一部分。作为刻蚀阻挡层的光刻胶层不再需要了，必须从表面去掉。

三、仪器的选择及应用

uv能量计可使用范围非常的广，如uv干燥机(uv光固化)、uv爆光设备、uv油墨、uv涂料、uv胶水、uv印刷、pcb电路板曝光、uv地板漆、uv上光等。作为高质量，高精度的测量仪器，用于测量不同光源在一定条件下的照射能量值，是uv生产过程中极为重要的固化质量检测仪器，能良好的控制和实现产品固化质量一致性必备工具能量计测量的光谱、感应紫外线波长，等参数都是按照国家标准执行。

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