真空蒸发镀膜厚度均匀性监测-九游会俱乐部

蒸发真空镀膜，就是在真空的环境，将固体材料加热蒸发，蒸发出来的原子或分子能自由地弥布到容器的器壁上。当把一些加工好的基板材料放在其中时，蒸发出来的原子或分子就会吸附在基板上逐渐形成一层薄膜。加热蒸发后，使其淀积在适当的表面上。其均匀性就决定了镀膜的品质。

光密度在线测试仪ls152，可以在真空镀膜生产的过程中进行镀膜厚均匀性的监测。通过红外线透过率、紫外线透过率以及可见光穿透率，来进行监控感应镀膜的均匀性。

影响厚度均匀性的因素有哪些呢？

基片上的膜厚度，就算是同一种物质都会出现分子结构不同的情况，而真空镀膜就是一种物质覆盖另一种物质，如果这两种物质的分子结合能够很好的镶嵌在一起，那么对真空镀膜情况是有很大好处的。

基片表面的温度也会影响真空镀膜厚度是否均匀，基片的温度越高镀膜效果越好，也有一些特殊材料，基片温度越低镀膜的效果更好。

真空镀膜机的蒸发功率和速率，也是影响真空镀膜情况一个较大的因素，想要改变的话只能在真空镀膜机上改善，想要通过加大真空镀膜设备的蒸发功率，来改变镀膜情况是比较困难的。

最后真空镀膜的时间和所需镀膜的厚度，也是影响均匀性的因素。最有效的办法，就是通过光密度在线测试仪ls152，来连续测试镀膜厚度的均匀性是否达到标准。